Китайські виробники напівпровідників демонструють неабияку винахідливість, модернізуючи своє передове обладнання. Метою цих зусиль є обхід глобальних експортних обмежень, що дозволить країні наздогнати США у гонці за лідерство в галузі штучного інтелекту. Це підкреслює глибоку рішучість Пекіна розвивати власну технологічну незалежність.
Глобальні експортні обмеження, ініційовані США та Нідерландами, прагнуть загальмувати технологічний прогрес Китаю. Зокрема, ці правила забороняють нідерландській компанії ASML постачати до Китаю свої найсучасніші літографічні системи глибокого ультрафіолету (DUV). Це змушує багато китайських фабрик покладатися на старіші моделі для виробництва критично важливих 7-нанометрових чипів.
Варто зазначити, що термін “нанометри” у цій галузі є скоріше позначенням поколінь чипів, аніж їхнім буквальним фізичним розміром. Щоб обійти обмеження, китайські підприємства активно закуповують компоненти на вторинному ринку. Це дозволяє їм підтримувати та покращувати виробничі потужності.
Серед модернізованих елементів – оновлені механічні платформи для кремнієвих пластин, відомі як “stage”. Також активно замінюються лінзи та сенсори, що значно покращують точність вирівнювання шарів чипа. Ці внутрішні вдосконалення DUV-систем дозволяють китайським фабрикам нарощувати виробництво чіпів для систем штучного інтелекту.
Джерела, обізнані з процесом, вказують, що місцеві фабрики імпортують компоненти з-за кордону. Потім сторонні компанії у Китаї виконують складні інженерні роботи з модернізації існуючих DUV-машин. Серед виробників, що використовують старі машини ASML для створення 7-нм ліній, називають Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC) та Huawei.
Представники ASML заявляють, що компанія неухильно дотримується всіх чинних законів та регуляцій. Вони наголошують, що ASML діє суворо в межах цих юридичних рамок. Компанія не підтримує оновлення систем, які б дозволили клієнтам підвищувати рівень продуктивності понад дозволений законом.
Нідерландській компанії дозволено надавати інженерну підтримку китайським клієнтам лише для обслуговування вже встановлених машин. Однак ASML заборонено проводити апгрейди, що покращують точність позиціонування (overlay) або швидкість роботи (throughput) DUV-систем більш ніж на один відсоток. Експортні обмеження також суворо забороняють постачання до Китаю ще більш передових систем EUV-літографії.
Ці кроки Китаю підкреслюють постійний пошук шляхів обходу глобального експортного контролю, спрямованого на стримування його технологічного розвитку. Вони демонструють адаптивність і наполегливість китайських чіпмейкерів у досягненні стратегічних цілей. Ситуація є прикладом глобальної технологічної конкуренції та гонки за лідерство в ключових галузях.